
NITTO SEIKI - Oligo Logic Culturing Cleanse
SecaMixtaNormal
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Todo lo que necesitas saber sobre este producto
Descripción
Cleans off makeup and pore stains while protecting moisture.
Contains oils similar to sebum to protect moisture and prevent dryness.
How to use:
Take an appropriate amount on your dry hands and gently massage with your fingers to apply to the makeup.
Then rinse well with water or lukewarm water.Tri (caprylic acid / capric acid) glyceryl, glycerin, PEG-20 glyceryl triisostearate, water, surfactin NaLos ingredientes pueden cambiar por decisión del fabricante. Para obtener una lista completa y actualizada de los ingredientes, consulta el envase del producto.Información del productoFabricado en:JapónN.º de catálogo:1109641359Acerca de la Marca: NITTO SEIKI 100% 4Etiquetas relacionadas#Face Washes#NITTO SEIKI#Logic#Culturing#Oligo#Cleanse#Japan#Limpiadores
Análisis de Ingredientes
no hay comedogenicos, puede ser seguro en piel con acné
Este resultado de análisis es una estimación aproximada.No obstante, se recomienda que sepas cuál es tu tipo de piel y leer cómo interpretar los resultados para prevenir efectos adversos.
tri (caprylic acid / capric acid) glyceryl
glycerin
peg-20 glyceryl triisostearate
water
surfactin na